初創(chuàng)：2007—2009
凱爾迪自2007年成立初期即確定將服務SMT和半導體清洗需求用戶作為企業(yè)使命。
自此公司將制造高品質(zhì)清洗設備作為初創(chuàng)期的階段目標。
經(jīng)過3年發(fā)展，公司形成了穩(wěn)定的研發(fā)隊伍，初步完成了國內(nèi)市場和服務網(wǎng)絡建設，形成了以網(wǎng)板、誤印和夾具、冷凝器清洗機為主打產(chǎn)品。并開始研發(fā)針對PCBA助焊劑清洗的離線和在線清洗設備。

成熟：2009—2013
借著開發(fā)新機器的腳步，凱爾迪保持著對研發(fā)的高投入，進一步壯大研發(fā)和工程技術人員隊伍。到2012年底公司已擁有資深專業(yè)研發(fā)團隊和具有多年電子制造業(yè)工作經(jīng)驗的工程和技術人員達20多人。
先后和國際清洗劑和工藝廠商，如Zestron和Arakawa合作，為用戶提供更為全面和周到的清洗方服務。
至此，凱爾迪產(chǎn)品涵蓋了整個半導體和SMT的清洗應用。國內(nèi)外市場和服務網(wǎng)絡進一步完善。從此凱爾迪進入了成熟發(fā)展期，并朝著持續(xù)創(chuàng)新快速邁進。

創(chuàng)新：2013—未來
隨著用戶對高可靠性電子產(chǎn)品和對環(huán)境友好方案需求的持續(xù)增加，不論是消費類，工業(yè)類還是軍工，醫(yī)療等行業(yè)。凱爾迪加強了員工技術能力的再培訓并鼓勵創(chuàng)新以應對這些新的需求。
并陸續(xù)為用戶提供了以下創(chuàng)新型產(chǎn)品：
--使產(chǎn)能翻倍的離線清洗方案
--針對漂洗后高COD有機廢水的處理方案
--針對既清洗助焊劑又清洗Particle的在線清洗方案
--CMOS和wafer清洗方案
凱爾迪深知客戶需求的持續(xù)變化，正如KED（Keep energetic development）的理念。